技術原理：

電子源技術
采用肖特基場發射或熱場發射電子槍，通過強電場使金屬電子脫離束縛，形成高亮度、高相干性的電子束。其亮度遠超傳統熱發射電子槍，束斑直徑可小于1nm，顯著提升成像分辨率。

電子光學系統
電子束經電磁透鏡聚焦、偏轉后形成細小探針，在樣品表面逐行掃描，產生二次電子、背散射電子等信號。這些信號被探測器收集并處理，生成反映樣品形貌、成分的圖像。

真空系統
維持高真空環境，防止電子束散射和樣品污染，確保信號穩定性。部分型號支持低真空模式，可直接觀察含水或非導電樣品。

臺式場發射掃描電鏡的性能參數：

分辨率：二次電子像分辨率可達1.0nm，部分型號在低電壓（1kV）下仍能保持1.4nm分辨率，適合觀察絕緣或電子束敏感樣品。

放大倍數：可高達100萬倍，覆蓋從宏觀形貌到納米結構的分析需求。

加速電壓：范圍通常為0.2-30kV，支持低電壓成像以減少樣品損傷。

探測器：標配二次電子探測器（SE）、背散射電子探測器（BSE）及能譜儀（EDS），可同步進行形貌觀察與元素分析。

樣品臺：支持大尺寸樣品，部分型號配備傾斜旋轉功能，實現多角度觀察。