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        馬爾文帕納科

        【熱點應用】XRF微區(qū)原位測定金屬工件表面殘余清洗劑的元素分布

        時間:2026-1-4 閱讀:198
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        本文摘要

        多層鍍膜工件加工過程中,前一層表面活性劑的殘留量將對后一層涂鍍效果產生顯著影響,所以要對工件表面殘留的SDS總量和分布進行準確測量。本文通過XRF微區(qū)能譜分析技術配合無標定量軟件,通過對金屬工件表面硫元素分布測定,表征十二烷基硫酸鈉殘留分布情況。XRF無損分析方法方便快捷,同時可以輸出含量對坐標的分布圖。


        引言


        十二烷基硫酸鈉(SDS,Sodium Dodecyl Sulfate)在電鍍工藝中主要作為表面活性劑使用,其作用主要包括:


        • 潤濕劑:SDS能顯著降低電解液的表面張力,使鍍液更容易均勻覆蓋在金屬基體表面,減少孔隙或漏鍍現(xiàn)象。

        • 分散劑:SDS的膠束結構能分散電解液中的金屬離子或添加劑,防止局部濃度過高,幫助形成更致密、平整的鍍層。

        • 增溶劑:在含有有機添加劑(如光亮劑、整平劑)的鍍液中,SDS可增溶疏水性物質,提高其在水相中的分散性,增強添加劑效果。


        但過量SDS可能導致泡沫過多(需添加消泡劑)或影響鍍液導電性。并且確保需與主鹽、pH調節(jié)劑等兼容,避免沉淀或失效。由此,在多層鍍膜工件加工過程中,前一層十二烷基硫酸鈉殘留量將對后一層涂鍍效果產生顯著影響。由此對于殘留SDS總量與分布測定的關鍵性不言而喻。


        本實驗采用微區(qū)能譜法結合無標定量分析對工件表面殘余SDS進行測定。


        實驗方法


        樣品為三件金屬工件,尺寸為2.47*5.6mm。為保護樣品信息,全程使用鑷子夾取。


        分析設備為馬爾文帕納科 Zetium X射線熒光光譜儀。該型設備內整合了高分辨相機、能譜分析核與步進電機。


        通過高清相機對設備表面進行攝影,供使用者選出測定點位;通過衰減片將光管光斑控制為直徑0.5mm尺寸,確保激發(fā)位置精確。 通過光學部件與樣品的緊密耦合(即光管、探測器非常接近樣品),同步多元素數(shù)據(jù)采集。電機步進為0.1mm,保障定位精準。


        Zetium光譜儀搭載SuperQ軟件,提供自動解譜、背景擬合、含量校準計算功能。并內置基于于FP的無標樣分析軟件Omnian,對未知樣品進行準確定量  。客戶僅需檢查選定元素種類即可獲得高可信度數(shù)據(jù)。


        通過螺絲將樣品固定在特制樣品杯中,頂部使用塑料膜壓緊固定。通過相機拍照如下:


        圖片

        1號樣品

        圖片

        2號樣品

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        3號樣品

        圖1. 樣品固定在特制樣品杯中


        測試條件如下:

        X射線管功率為60kV/66mA;無需濾光片,使用SSM-高分辨衰減器,高分辨DSP模式,Omnian無標定量軟件。


        選擇測量點位情況如下圖所示:

        圖片

        1號樣品

        圖片

        2號樣品

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        3號樣品

        圖2. 樣品表面測量點位


        圖片

        Zetium

        X射線熒光光譜儀

        圖片


        Zetium X射線熒光光譜儀具有創(chuàng)新的元素分析方法,SumXcore(即多核X射線分析技術)將波譜核和能譜核組合在一個平臺上并行運行。提供優(yōu)異的靈活性、高性能和多功能性。主要規(guī)格:

        • Na-Am的元素范圍

        • ppm-100%的濃度范圍

        • 為X射線高通量環(huán)境專門構建的SDD探測器

        • 可變信號衰減器,以實現(xiàn)優(yōu)化性能靈活性

        • 高達1Mcps的高計數(shù)率能力

        微小區(qū)域分析和Mapping

        • 最大樣品直徑35mm

        • 0.5mm的光斑區(qū)域

        • 步進為100μm

        • 照相機和創(chuàng)新的樣品定位機制

        • 專門設計用于各種不同尺寸不規(guī)則形狀樣品的支架


        結果與討論


        殘余物質(十二烷基硫酸鈉)可供測試元素包括碳、鈉、硫,其中碳元素熒光產額極低,無法使用能譜核探測;鈉元素信號峰與基地材質Zn的L線能量接近會受到強烈干擾;故本次使用硫元素含量計算SO3含量,代表十二烷基硫酸鈉分布。三枚工件SO3分布如下:


        圖片

        圖3. 1號樣品SO3含量分布三維圖


        圖片

        圖4. 2號樣品SO3含量分布三維圖


        圖片

        圖5. 3號樣品SO3含量分布三維圖


        Conclusion

        上述實驗證明,Zetium光譜儀可通過能譜核測試硫元素,識別工件各部位十二烷基硫酸鈉的殘留情況;通過原位定點測試,可以直觀地反映各部位殘留差異。XRF分析技術不需復雜制樣,可對原樣直接分析,簡化分析步驟,降低了人工操作的干擾,提高分析效率。



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