揭秘低成本無掩模光刻機(jī)如何實(shí)現(xiàn)微米級快速曝光

本文將介紹一種基于DLP投影技術(shù)的無掩模光刻機(jī)UTA-1A的組成與工作原理，帶您了解其如何實(shí)現(xiàn)快速、靈活的圖形化光刻。

一、核心組成與工作原理

        UTA-1A系統(tǒng)主要由四個部分構(gòu)成：DLP投影系統(tǒng)、相機(jī)模塊、顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)以及專用操作軟件。其核心為DLP投影系統(tǒng)，該技術(shù)基于數(shù)字微鏡器件（DMD），是一種通過微鏡陣列對光進(jìn)行高速調(diào)制的MEMS技術(shù)。

        DMD芯片上分布著數(shù)百萬個可獨(dú)立控制的微鏡，每個微鏡對應(yīng)圖像中的一個像素。通過電信號控制微鏡的偏轉(zhuǎn)狀態(tài)，可實(shí)現(xiàn)光路的開關(guān)調(diào)制，進(jìn)而將設(shè)計(jì)好的圖形投影至光刻膠涂層表面，完成曝光。

二、系統(tǒng)特點(diǎn)與光刻能力

        結(jié)合顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)，用戶可在操作軟件中自由設(shè)計(jì)光刻圖形，實(shí)現(xiàn)在不同倍率下對微米至毫米級別區(qū)域進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)可在數(shù)秒內(nèi)完成一次曝光，最小光刻線寬可達(dá) 1μm。

設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖如下：

三、靈活的設(shè)備獲取方式

        了解其基本原理后，您可能會覺得光刻并沒有想象中那么遙不可及。盡管UTA-1A與工業(yè)級光刻設(shè)備不在同一量級，但其作為一款入門級無掩模光刻系統(tǒng)，已能滿足多數(shù)科研或教學(xué)場景的需求。

        若您希望自行組裝，確實(shí)需要一定的光學(xué)與機(jī)械調(diào)試經(jīng)驗(yàn)；我們也提供成熟整機(jī)方案，若您已有適配的顯微鏡，該系統(tǒng)的成本將更具吸引力，歡迎進(jìn)一步咨詢具體配置與報價。