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產(chǎn)品概述:本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬
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產(chǎn)品概述:本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬
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本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜
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MNT-G手套箱集成型原子層沉積ALD系統(tǒng)是一種高度專(zhuān)業(yè)化的薄膜制備設(shè)
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ATLANT3D推出了直接原子層加工技術(shù)——能實(shí)現(xiàn)原子級(jí)精度、無(wú)掩模直
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EPEE i200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
EPEEi200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用于6/8英寸氧化硅、氮
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HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
HORICL200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以
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