卡博萊特蓋羅底部裝載式高溫真空氣氛爐

卡博萊特蓋羅底部裝載式高溫真空氣氛爐HTBL有2200°C和3000°C兩種可選。石墨爐有50，80或者200l的不同容積，金屬爐只有60l。HTBL 60 MO/16-1Gzui高加熱溫度1600°C，配有鉬制隔熱板和加熱元件。金屬爐特別適合應用非常純凈或者高真空的氣氛。HTBl也非常方便裝/卸樣品，爐膛可以下降并露出,以方便樣品任意方向放入爐內而無任何限制。另外樣品熱電偶可以放置于位置，也可以訂購氣氛盒。底座的移動是自動控制的，液動動力驅動，當爐膛移動到zui低位置時，可以把爐膛手動外推90°C。

氮氣，氬氣和氫氣可以單獨或者混用，也可以使用其他氣體。氣氛環境輕微過壓，分壓壓力在10到1000mbar之間，由氣體流量決定。不可使用空氣（氧氣）。

氣路系統由各種進氣和控制裝置組成，由真空泵進行真空操作，各個獨立溫度控制裝置實現高溫度均勻性。

底部裝載式高溫真空爐HTBL系列zui高工作溫度達2200°C，垂直加熱罐體積在50L-200L范圍。適合科研或小型生產用。

卡博萊特蓋羅底部裝載式高溫真空氣氛爐HTBL優點概述：

- 真空操作，雙層隔熱爐體，水冷系統

- 水冷系統配有流量監控,流量調節和溫度顯示

- 獨立過熱保護溫度控制器和熱電偶

- 加樣準確方便

- zui大載樣量600 kg

- 配件種類齊全:

防塵處理用除塵器, 可燃氣體安全包裝,頂部和底部附加加熱元件增大均溫區, 脫膠流水線配有火焰燃燒裝置, 置換保護氣氛用真空泵, 真空和高真空操作, ...

石墨爐

可以運用在真空/高真空或保護性氣體氮/氬氣環境下，也可以加載氫氣/一氧化碳反應性氣體，不能在空氣環境下使用。

應用：

熱解，硅化，燒結，脫膠

回火，釬焊，排氣，碳化，快速成型，合成，晶體生長，金屬注射成型（MIM）

鉬制和鎢制金屬爐

金屬爐沒有隔熱保溫纖維，可以達到很高純度的氣氛或高真空度要求。

應用：

釬焊，排氣，燒結，脫膠

回火，熱解，快速成型，合成，晶體生長，金屬注射成型（MIM）