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        • 牛津儀器 RIE 半導體刻蝕機 參考價: 面議

          參考價: 面議 型號:Plasmalab 133
          牛津儀器 RIE 半導體刻蝕機支持的晶圓尺寸最大為300mm(330mm基臺)RIE設置為GaN刻蝕射頻功率:600W,13.56MHz水冷電極:10C-80C...
          型號: Plasmalab... 品牌:ABNER/艾博納所在地:淮安市 對比
          進口刻蝕機材料刻蝕機等離子體刻蝕微納米級刻蝕反應離子刻蝕
          2025/12/12 7:16:191145

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