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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等組成。設(shè)備用途：脈沖激光沉積(Pu...
型號(hào)： PLD450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 11:35:21 對(duì)比

PLD450 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：用于...
型號(hào)： PLD300 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 11:33:19 對(duì)比

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PLD 沈陽科儀
高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用可行軟件控制系統(tǒng)...
型號(hào)： FJL560 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 11:31:34 對(duì)比

沈陽科儀磁控濺射離子束
金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)
金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)MOCVD主要由真空室反應(yīng)系統(tǒng)、氣體（載氣與氣相有機(jī)源）輸運(yùn)控制系統(tǒng)、有機(jī)源蒸發(fā)輸運(yùn)控制系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全保護(hù)報(bào)警系統(tǒng)組成...
型號(hào)： MOCVD 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 19:03:08 對(duì)比

MOCVD
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備...
型號(hào)：線列式PECVD 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:59:08 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽...
型號(hào)： Cluster P... 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:54:49 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、射頻電...
型號(hào)： PECVD 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:52:34 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。本...
型號(hào)： PECVD 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:48:50 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
型號(hào)： EB700 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:44:16 對(duì)比

電子束蒸發(fā)鍍膜
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
型號(hào)： EB900 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:40:30 對(duì)比

電子束蒸發(fā)鍍膜
高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組...
型號(hào)： DZS500 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:36:16 對(duì)比

電子束蒸發(fā)鍍膜沈陽科儀
蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工...
型號(hào)： SMART 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:33:52 對(duì)比

蒸發(fā)薄膜沉積
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對(duì)接。熱...
型號(hào)： DZ450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:29:32 對(duì)比

高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
型號(hào)： DZ350 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:25:49 對(duì)比

熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
型號(hào)： LMBE450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:21:18 對(duì)比

分子束外延薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號(hào)： JGP560 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:17:28 對(duì)比

磁控濺射薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號(hào)： JGP450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:13:49 對(duì)比

磁控濺射薄膜沉積
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)?？蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
型號(hào)： PC450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:09:07 對(duì)比

薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號(hào)： TRP450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:05:28 對(duì)比

磁控濺射薄膜
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
型號(hào)：線列式所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 18:02:04 對(duì)比

磁控濺射

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