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        深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

        • 激光橢圓儀

          SE 401adv 通過(guò)映射高達(dá) 200 毫米的液體單元、用于原位測(cè)量的液體單元、攝像機(jī)、自動(dòng)對(duì)焦、模擬軟件和經(jīng)過(guò)認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)晶圓,可根據(jù)您的需求進(jìn)行調(diào)整。
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:51:40 對(duì)比
        • 光譜橢偏儀

          SENTECH SER 800 PV光譜橢偏儀符合PERC、TOPCON、HJT和鈣鈦礦技術(shù)等新型太陽(yáng)能電池技術(shù)的研發(fā)要求。它操作簡(jiǎn)單,具有高測(cè)量靈敏度、去偏振...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:46:48 對(duì)比
        • 激光橢圓儀

          多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長(zhǎng)為 632.8 nm 時(shí),在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率。可更換晶圓支架...
          型號(hào): SE 400adv... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:37:02 對(duì)比
        • 自動(dòng)光譜反射儀

          SENTECH RM 1000 QC反射儀設(shè)計(jì)用于快速簡(jiǎn)單地測(cè)量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度,用于工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中的質(zhì)量控制。該工具涵蓋 20 nm ...
          型號(hào): SENTECH R... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:32:51 對(duì)比
        • 全自動(dòng)薄膜質(zhì)量控制

          SENTECH SENDURO?MEMS 提供配置靈活性,以滿足生產(chǎn)控制和質(zhì)量控制的要求。該工具可以配置反射法和橢圓偏振法中的μ點(diǎn)測(cè)量,以及提供準(zhǔn)確測(cè)量位置的模...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:31:06 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量光譜儀軟件

          SpectraRay/4 是 SENTECH 專(zhuān)有的光譜橢圓偏振儀軟件,包括橢圓、反射和透射數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)采集、建模、擬合和擴(kuò)展報(bào)告。它支持可變角度、多實(shí)驗(yàn)和組合光...
          型號(hào): SpectraRa... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:16:43 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量紅外光譜橢圓儀

          SENTECH SENDIRA 專(zhuān)為紅外 (FTIR) 而設(shè)計(jì)。這款緊湊的臺(tái)式儀器包括吹掃橢偏儀光學(xué)元件、計(jì)算機(jī)控制的測(cè)角儀、水平樣品平臺(tái)、自動(dòng)準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡、商用...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:14:53 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量橢圓光譜儀

          SENTECH SENpro 橢圓偏振光譜儀具有操作簡(jiǎn)單、測(cè)量速度快、不同入射角橢偏振測(cè)量的組合數(shù)據(jù)分析等特點(diǎn)。它的測(cè)量光譜范圍為 370 nm 至 1,050...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:10:53 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量橢圓光譜儀

          SENTECH SENresearch 4.0 使用快速 FTIR 橢圓偏振法分別測(cè)量高達(dá) 2,500 nm 或 3,500 nm 的近紅外光譜。它提供最寬的光...
          型號(hào): SENresear... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:06:39 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量激光橢圓儀

          SENTECH SE 500adv結(jié)合了橢圓偏振法和反射法,消除了測(cè)量透明薄膜層厚的模糊性。它將可測(cè)量的厚度擴(kuò)展到 25 μm。因此,SE 500adv 擴(kuò)展了...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:04:26 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量光譜反射儀軟件

          FTPadv Expert薄膜測(cè)量軟件具有FTPadv標(biāo)準(zhǔn)軟件中包含的用戶友好和以配方為導(dǎo)向的操作概念。突出顯示擬合參數(shù)、測(cè)量和計(jì)算的反射光譜以及主要結(jié)果的光學(xué)...
          型號(hào): FTPadv Ex... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:02:51 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量膜厚探頭

          FTPadv是一種經(jīng)濟(jì)高效的臺(tái)式光譜反射解決方案,具有快速厚度測(cè)量功能。測(cè)量時(shí)間不到 100 ms,精度低于 0.3 nm,膜厚范圍為 50 nm – 25 μ...
          型號(hào): FTPadv 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 10:00:29 對(duì)比
        • 薄膜計(jì)量光譜反射儀

          RM 1000 和 RM 2000 光譜反射儀可測(cè)量表面光滑或粗糙的平面或彎曲樣品的反射率。使用SENTECH FTPadv Expert軟件計(jì)算單膜或?qū)盈B的厚...
          型號(hào): RM 1000/R... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:54:21 對(duì)比
        • 等離子刻蝕集群系統(tǒng)

          SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個(gè)轉(zhuǎn)移室和一個(gè)真空負(fù)載鎖或盒式站。包括搬運(yùn)機(jī)器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個(gè)端口。最多可以使用兩個(gè)盒式磁帶站...
          型號(hào): SENTECH 集... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:46:34 對(duì)比
        • AL實(shí)時(shí)監(jiān)控器

          SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器是一種經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的光學(xué)診斷工具,可實(shí)現(xiàn)單個(gè) ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性(生長(zhǎng)...
          型號(hào): SENTECH A... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:33:06 對(duì)比
        • ICP沉積系統(tǒng)

          SENTECH SIPAR ICP沉積系統(tǒng)是為使用靈活的系統(tǒng)架構(gòu)的各種沉積模式和工藝開(kāi)發(fā)和設(shè)計(jì)的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個(gè)動(dòng)態(tài)溫控基板電極...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:29:05 對(duì)比
        • 開(kāi)蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVD

          SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng),適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。
          型號(hào): SENTECH D... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:24:35 對(duì)比
        • RIE等離子刻蝕系統(tǒng)

          SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動(dòng)態(tài)溫度控制和氦背冷卻,代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢(shì)。等離子體蝕刻過(guò)程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)...
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:17:58 對(duì)比
        • 等離子刻蝕系統(tǒng)RIE

          SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能,是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。
          型號(hào): SENTECH S... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 9:02:20 對(duì)比
        • RIE等離子蝕刻系統(tǒng)

          SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng),結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和直接負(fù)載的成本效益設(shè)計(jì)。
          型號(hào): SENTECH E... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 8:54:22 對(duì)比

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