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        深圳市矢量科學儀器有限公司

        • 氣相分解金屬沾污收集(VPD)設備

          詳細介紹Seehund? A型氣相分解金屬沾污收集設備(VPD)是專為集成電路制造、大晶圓生產及再生、先導工藝研發等行業提供金屬沾污控制方案的產品。由于目前的晶...
          型號: Seehund? ... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:37:25 對比
        • 8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備

          詳細介紹Shale? A系列等離子體增強化學氣相沉積設備(PECVD),通過平行電容板電場放電產生等離子體,可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較好的氧化硅...
          型號: Shale? A ... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:35:35 對比
        • 8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備

          Shale? C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備(ICP-CVD),通過電感耦合(ICP)產生高密度等離子體,并通過電容耦合(CCP)產生偏壓,可實現低溫、...
          型號: Shale? C ... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:33:51 對比
        • 電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設備

          詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中,等離子體中會包含大量的活性粒子,與表面原子產生化學反應,生成可揮發產物后,隨真空抽氣...
          型號: Haasrode?... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:31:59 對比
        • 8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設備

          Pishow? D 系列深刻蝕設備,是針對8英寸~6英寸產線或科研深硅刻蝕工藝的專用設備,擁有自主開發的優化設計,保證了優異的刻蝕精度控制和損傷控制。提供Si ...
          型號: Pishow? D... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:29:54 對比
        • 8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備

          詳細介紹ICP是一種加工微納結構的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優...
          型號: Pishow? A... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:28:05 對比
        • 8英寸金屬刻蝕設備

          Kessel? Pishow? M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺,基于自有開發的優化設計,保證了優異的刻蝕均勻性(片內8%,片間5...
          型號: Kessel? P... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:25:35 對比
        • 8英寸硅刻蝕設備

          Tebaank? Pishow? P 硅刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備設備由電感耦合等離子體刻蝕腔(ICP etch chamber)以及傳輸模塊...
          型號: Tebaank? ... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:24:03 對比
        • 12英寸金屬刻蝕設備

          Herent? Chimera? M 金屬刻蝕設備,為針對12英寸IC產業0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發的專用產品, 同時也可應用于鋁墊(Al ...
          型號: Herent? C... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:22:06 對比
        • 12英寸硬掩膜刻蝕設備

          Herent? Chimera? A 金屬硬掩膜刻蝕設備,為針對 12 英寸 IC 產業的后道銅互連中氮化鈦(TiN)金屬硬掩膜刻蝕(metal hardmas...
          型號: Herent? C... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:19:45 對比
        • 8英寸離子束沉積(IBD)設備

          Ganister? A離子束沉積設備,是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發的專用產品,在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有著重要的應用...
          型號: Ganister?... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:17:21 對比
        • 8英寸離子束塑形(IBS)設備

          Lorem? A 系列常規 IBS 設備,由離子源柵極引出正離子并加速,中性束流撞擊樣品表面,濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間,起輝不受非揮發性...
          型號: Lorem? A ... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:15:45 對比
        • 12英寸離子束塑形(IBS) 設備

          Pangea?A系列常規IBS設備由離子源柵極引出正離子并加速,中性束流撞擊樣品表面,濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間,起輝不受非揮發性副產物的...
          型號: Pangea? A... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:13:49 對比
        • 12英寸特種金屬膜層刻蝕設備

          LMEC-300? 是魯汶儀器針對特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設備,應用于新興存儲器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復雜的金屬疊層,例如磁存...
          型號: LMEC-300 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 21:11:35 對比

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